
Gerador de oxigênio PSA para semicondutor
Descrição
Parâmetros técnicos
Por que a indústria de semicondutores precisa de geradores de oxigênio PSA?
Fornecimento de gás de alta pureza:A fabricação de semicondutores tem requisitos rígidos sobre a pureza do gás e o oxigênio de alta pureza é indispensável para litografia, limpeza e outros links. Com a ajuda da tecnologia de adsorção de balanço de pressão, o Gerador de Oxigênio PSA produz oxigênio com uma pureza de 95%± 3%, o que atende aos requisitos da formação da camada de óxido e limpeza de bolas e evita o risco de contaminação por impureza do suprimento tradicional de oxigênio do cilindro a gás.
Garanta a estabilidade do processo:As linhas de produção de semicondutores requerem um suprimento de gás contínuo e estável. O Gerador de Oxigênio PSA usa torres de adsorção dupla para funcionar alternadamente e, através do controle inteligente do PLC, ele pode atingir 24- hora de suprimento ininterrupto de oxigênio, evitando interrupções de produção causadas pela substituição manual de garrafas e se adaptarem aos processos sensíveis à pressão do ar, como deposição de filmes finos e etapa.
Reduza os custos e otimize o espaço:Comparados com tanques de armazenamento de oxigênio líquido e cilindros de gás de alta pressão, os geradores de oxigênio PSA produzem oxigênio no local, reduzindo bastante os custos de transporte e armazenamento. Possui uma pequena pegada e suporta expansão modular, que atende às necessidades de maximizar a utilização do espaço em oficinas limpas de fábricas de semicondutores. O custo de uso a longo prazo é cerca de 20% menor que o método tradicional.
Adaptar -se a processos especiais:Em processos avançados, alguns processos especiais requerem controle preciso da concentração de oxigênio. O gerador de oxigênio PSA pode ajustar flexivelmente a pureza da saída de oxigênio (95%-99. 9%) ajustando a pressão de adsorção e a razão de peneira molecular para atender aos requisitos especiais de processo da fabricação de memória flash 3D NAND.
Ambientalmente amigável e fácil de manter:A tecnologia PSA não requer reagentes químicos e o processo de produção de oxigênio não emita substâncias nocivas, que atendem aos padrões de proteção ambiental da indústria de semicondutores. O equipamento utiliza o aço inoxidável e as peneiras moleculares auto-limpantes, com um ciclo de manutenção de até 3-5 anos, e é adequado para ambientes de fabricação de wafer de alta limpeza.

| categoria | Detalhes do parâmetro |
| Pureza de oxigênio | 93% -99. 5% (o sistema de filtração ULPA pode ser personalizado, conteúdo de impureza menor ou igual a 1ppb) |
| Pressão de saída | 0. 5-1. 5mpa (ajustável, adaptado ao padrão de entrada de ar do equipamento semicondutor) |
| Faixa de fluxo | 10-5000 nm³/h (suporta expansão paralela de várias unidades) |
| Ponto de orvalho | Menor ou igual a -70 grau (para impedir que o vapor de água poluir o ambiente do processo) |
| Eficiência energética | Menor ou igual a 0. |
| Nível de ruído | Menos ou igual a 65dB (estrutura de baixa vibração + concha à prova de som, de acordo com os padrões da sala limpa da classe 1000) |
As vantagens principais do gerador de oxigênio PSA

Garantia de pureza ultra alta
A peneira molecular de duas camadas dupla e a unidade de oxidação catalítica são usadas para remover profundamente as impurezas como hidrocarbonetos e CO₂, e a pureza do oxigênio atinge mais de 99,5%, atendendo ao padrão semi F20. Analisador on-line em tempo real interno, sincronização de dados no sistema SCADA de fábrica para garantir a estabilidade do processo.
Controle inteligente e design redundante
Sistema de controle PLC+integrado HMI, suporta monitoramento remoto, auto-diagnóstico de falha e comutação de emergência (adsorção redundante de duas torres). Tecnologia de compensação automática de pressão para lidar com a demanda instantânea de alto fluxo de equipamentos semicondutores.
Solução de economia de energia de baixo carbono
A tecnologia sinérgica da VPSA (Adsorção de Administração de Swing Pressão A vácuo) reduz o consumo de energia, economizando 15% -20% de energia em comparação com o módulo de recuperação de calor de resíduos opcionais tradicional para reduzir a carga de calor da oficina.
Compatibilidade da sala limpa
Todo o canal de fluxo de aço inoxidável + revestimento de nano para evitar contaminação por íons metálicos; Design de vedação de vazamento zero, passou ISO 8573-1 classe 0 certificação.
Tipos de plantas de oxigênio PSA

Equipamento modular

Equipamento de torre dupla

Equipamento de contêiner
| Seleção do gerador de oxigênio da série NTK95 | ||||||
| Não. | Modelos | Capacidade (NM3/HR) |
Pureza | Consumo de energia de 1nm3 oxigênio produzido (KW/H) |
Número de garrafas flutuou em 12 horas (PCs) |
Operador necessário |
| 1 | Ntk 95-5 p | 5 | 95%+-1% | 3.54 | 10 | 2 |
| 2 | Ntk 95-10 p | 10 | 95%+-1% | 2.52 | 20 | 2 |
| 3 | Ntk 95-15 p | 15 | 95%+-1% | 2.31 | 30 | 2 |
| 4 | Ntk 95-20 p | 20 | 95%+-1% | 2.13 | 40 | 2 |
| 5 | Ntk 95-25 p | 25 | 95%+-1% | 2.01 | 50 | 2 |
| 6 | Ntk 95-30 p | 30 | 95%+-1% | 2.09 | 60 | 2 |
| 7 | Ntk 95-40 p | 40 | 95%+-1% | 1.81 | 80 | 2 |
| 8 | Ntk 95-50 p | 50 | 95%+-1% | 1.94 | 100 | 2 |
| 9 | Ntk 95-60 p | 60 | 95%+-1% | 1.62 | 120 | 2 |
| 10 | Ntk 95-80 p | 80 | 95%+-1% | 1.92 | 160 | 2 |
| 11 | Ntk 95-100 p | 100 | 95%+-1% | 1.83 | 200 | 2 |
Perguntas frequentes
1. Quão alto pode ser a pureza do oxigênio e atende aos requisitos da fabricação de semicondutores?
Nosso gerador de oxigênio PSA para semicondutores pode produzir rotineiramente oxigênio com uma pureza de 95%± 3%. Para alguns processos que requerem pureza de oxigênio extremamente alta, ajustando os parâmetros do equipamento, a pureza da saída de oxigênio pode ser controlada com flexibilidade na faixa de 95% - 99. 9%, atendendo totalmente aos requisitos rigorosos para a pureza do gás nos links principais, como litografia semicondutores, limpeza e oxidação.
2. Quão estável é o equipamento e pode garantir a operação contínua da linha de produção de semicondutores?
O equipamento adota um modo de trabalho alternativo da torre de adsorção dupla, combinada com um sistema de controle inteligente do PLC, para obter 24- hora de suprimento de oxigênio ininterrupto e estável. Esse modo de operação automatizado evita interrupções no fornecimento de gás causadas pela substituição manual de garrafas, fornece suprimento de gás confiável e estável para processos como deposição de filmes finos e gravação sensíveis à pressão do ar e reduz efetivamente o risco de interrupções de produção causadas por problemas de suprimento de gás.
3. Comparado aos métodos tradicionais de suprimento de oxigênio, qual é o custo de uso?
Comparado com tanques de armazenamento de oxigênio líquido ou cilindros de gás de alta pressão, nosso gerador de oxigênio PSA adota o modo de produção de oxigênio no local, o que salva muito os custos de transporte e armazenamento de oxigênio. O equipamento ocupa uma área pequena e pode ser expandida modularmente, reduzindo os custos de aluguel do local. A longo prazo, o custo é cerca de 20% menor que o método tradicional de suprimento de oxigênio, o que economiza significativamente os custos operacionais.
4. A manutenção do equipamento é complicada? Quanto tempo dura o ciclo de manutenção?
O equipamento é fácil de manter, usando aço inoxidável de nível alimentar e peneiras moleculares auto-limpantes, o que reduz bastante a carga de trabalho de manutenção. Em circunstâncias normais, o ciclo de manutenção é tão longo quanto 3-5 anos, e estamos equipados com uma equipe profissional pós-venda para fornecer suporte técnico a qualquer momento para ajudá-lo a resolver problemas durante a operação do equipamento.
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Tag: Gerador de oxigênio PSA para semicondutor, China PSA Oxygen Generator para semicondutores, fornecedores, fábrica
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